一种大面积纳米线阵列膜及其制备方法

发布于 2023-02-22 09:27

公开（公告）号: 

CN114538413A

申请号: 

CN202210187658.2

申请日: 

2022-02-28

发明人: 

方东

索军

焦可心

公开日期: 

2022-05-27

所属会员单位: 

昆明理工大学

专利类型: 

发明公布

法律状态: 

公布