近室温红外成像用稀土锰氧化物薄膜制备方法

公开(公告)号: 
CN114150296A
申请号: 
CN202111503874.5
申请日: 
2021-12-09
发明人: 
杨盛安
陈清明
张辉
马吉
公开日期: 
2022-03-08
所属会员单位: 
昆明理工大学
专利类型: 
发明公布