一种激光熔覆用低密度难熔高熵合金熔覆层制备方法

发布于 2023-02-22 09:27

公开（公告）号: 

CN114164425A

申请号: 

CN202111333339.X

申请日: 

2021-11-11

发明人: 

刘洪喜

王悦怡

张晓伟

郝轩弘

周鹏远

公开日期: 

2022-03-11

所属会员单位: 

昆明理工大学

专利类型: 

发明公布

法律状态: 

实质审查