一种高硅氧化铜矿深度分离与富集铜的方法

发布于 2023-02-22 09:27

公开（公告）号: 

CN114015864A

申请号: 

CN202111303786.0

申请日: 

2021-11-05

发明人: 

郑永兴

黄宇松

吕晋芳

宁继来

公开日期: 

2022-02-08

所属会员单位: 

昆明理工大学

专利类型: 

发明公布

法律状态: 

实质审查