一种高吸附量的锂离子印迹纳米复合膜的制备方法

公开(公告)号: 
CN113522061B
申请号: 
CN202110827189.1
申请日: 
2021-07-21
发明人: 
魏永刚
杨家琪
刘翠萍
王华
李博
周世伟
曲国瑞
李孔斋
胡建杭
董鹏
公开日期: 
2022-06-21
所属会员单位: 
昆明理工大学
专利类型: 
发明授权