一种用于金刚石膜抛光的等离子体刻蚀法及其产品

发布于 2023-02-22 09:27

公开（公告）号: 

CN113529050A

申请号: 

CN202110757175.7

申请日: 

2021-07-05

发明人: 

高冀芸

刘晨辉

王访

杨黎

郭胜惠

冯曙光

公开日期: 

2021-10-22

所属会员单位: 

昆明理工大学

专利类型: 

发明公布

法律状态: 

实质审查