一种基于TiB晶须的钛或钛合金的梯度渗层及其制备方法

发布于 2023-02-22 09:27

公开（公告）号: 

CN113046683B

申请号: 

CN202110293937.2

申请日: 

2021-03-19

发明人: 

段永华

卢耀平

王昕宇

吴影

王勇

曲德艺

公开日期: 

2022-03-01

所属会员单位: 

昆明理工大学

专利类型: 

发明授权

法律状态: 

授权