一种低温薄铂涂层的制备方法

公开(公告)号: 
CN112851407A
申请号: 
CN202110089767.6
申请日: 
2021-01-22
发明人: 
胡劲
张世辉
王开军
段云彪
何亚
张佳敏
蒋中鸣
王智毅
公开日期: 
2021-05-28
所属会员单位: 
昆明理工大学
专利类型: 
发明公布